Compensation of Surface Roughness Using an Au Intermediate Layer in a Cu Direct Bonding Process

Copper-copper (Cu-Cu) direct bonding assisted by direct immersion gold (DIG) was demonstrated. Cu-Cu direct bonding is a critical technology for inductively coupled memory interconnections. To solve the problems of conventional methods of Cu-Cu direct bonding, a plating process using DIG to form an...

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Veröffentlicht in:Journal of electronic materials 2018-09, Vol.47 (9), p.5403-5409
Hauptverfasser: Noma, Hirokazu, Kamibayashi, Takumi, Kuwae, Hiroyuki, Suzuki, Naoya, Nonaka, Toshihisa, Shoji, Shuichi, Mizuno, Jun
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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