Role of Cu foil in-situ annealing in controlling the size and thickness of CVD graphene domains

Producing graphene with minimal crystalline defects and a controllable number of layers is highly desirable for its integration in advanced technological applications. Here we show how the chemical vapor deposition (CVD) protocol can be adjusted in order to control the size, the shape and the thickn...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Carbon (New York) 2018-04, Vol.129, p.270-280
Hauptverfasser: Huet, Benjamin, Raskin, Jean-Pierre
Format: Artikel
Sprache:eng
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