Plasma on large surfaces
Die Funktionalisierung großer Flächen unterschiedlicher Substrate durch das Aufbringen dunnster Schichten im Vakuum ist eine seit vielen Jahren industriell etablierte Technologie. Verschiedenste Abscheideverfahren kommen hier zum Einsatz. Mittels Plasmaverfahren oder Verdampfung beschichtete Bauteil...
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Veröffentlicht in: | Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten Oberflèachen und Dünne Schichten, 2017-08, Vol.29 (4), p.38 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | ger |
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container_title | Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten |
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creator | Seyfert, Ulf Fahland, Matthias Brauer, Gunter |
description | Die Funktionalisierung großer Flächen unterschiedlicher Substrate durch das Aufbringen dunnster Schichten im Vakuum ist eine seit vielen Jahren industriell etablierte Technologie. Verschiedenste Abscheideverfahren kommen hier zum Einsatz. Mittels Plasmaverfahren oder Verdampfung beschichtete Bauteile sind in vielen Bereichen des Lebens zu finden. Durch den hohen Flächendurchsatz derartiger Anlagen und deren hohen Entwicklungsstand sind die vakuumbedingt höheren Anschaffungskosten dieser Anlagen gegenuber atmosphärischen Abscheideverfahren oftmals nicht das bestimmende wirtschaftliche Moment und bieten in vielen Fällen auch die ökologisch nachhaltigere Lösung. Neue Applikationen können auf einem sehr umfangreichen technologischen und industriellen Erfahrungsschatz aufbauen und innerhalb kurzer Zeit in die Produktion uberfuhrt werden. |
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Verschiedenste Abscheideverfahren kommen hier zum Einsatz. Mittels Plasmaverfahren oder Verdampfung beschichtete Bauteile sind in vielen Bereichen des Lebens zu finden. Durch den hohen Flächendurchsatz derartiger Anlagen und deren hohen Entwicklungsstand sind die vakuumbedingt höheren Anschaffungskosten dieser Anlagen gegenuber atmosphärischen Abscheideverfahren oftmals nicht das bestimmende wirtschaftliche Moment und bieten in vielen Fällen auch die ökologisch nachhaltigere Lösung. Neue Applikationen können auf einem sehr umfangreichen technologischen und industriellen Erfahrungsschatz aufbauen und innerhalb kurzer Zeit in die Produktion uberfuhrt werden.</description><identifier>ISSN: 0947-076X</identifier><identifier>EISSN: 1522-2454</identifier><identifier>DOI: 10.1002/vipr.201700653</identifier><language>ger</language><publisher>Weinheim: Wiley Subscription Services, Inc</publisher><subject>Coating ; Equipment costs ; Evaporation ; Industrial applications ; Plasmas (physics) ; Thin films</subject><ispartof>Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten, 2017-08, Vol.29 (4), p.38</ispartof><rights>Copyright © 2017 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. 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Durch den hohen Flächendurchsatz derartiger Anlagen und deren hohen Entwicklungsstand sind die vakuumbedingt höheren Anschaffungskosten dieser Anlagen gegenuber atmosphärischen Abscheideverfahren oftmals nicht das bestimmende wirtschaftliche Moment und bieten in vielen Fällen auch die ökologisch nachhaltigere Lösung. 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