Advanced Fabrication Processes for Superconducting Very Large-Scale Integrated Circuits

We review the salient features of two advanced nodes of an 8-Nb-layer fully planarized process developed recently at MIT Lincoln Laboratory for fabricating single flux quantum (SFQ) digital circuits with very large-scale integration on 200-mm wafers: the SFQ4ee and SFQ5ee nodes, where "ee"...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	IEEE transactions on applied superconductivity 2016-04, Vol.26 (3), p.1-10
Hauptverfasser:	Tolpygo, Sergey K., Bolkhovsky, Vladimir, Weir, T. J., Wynn, Alex, Oates, D. E., Johnson, L. M., Gouker, M. A.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	digital circuits ERSFQ Josephson junctions kinetic inductance MoNx Nb/AlOx/Nb Josephson junctions Niobium Plasma etching Resistors RQL RSFQ SFQ superconducting electronics Superconducting integrated circuits superconductor integrated circuits Wires
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