Hybrid-Sulfnitriding of Ion-Nitriding and Sputtering

SCM 435 was plasma-sulfnitrided at 823K for 3.6-18ks in a 30% N2-70% H2 mixing gas atmosphere at 665Pa by hybrid-treating ion-nitriding and sputtering of MoS2. MoS2 was positioned 20mm above the specimen and applied discharge voltages of 300-600V. Sulfnitriding layers formed on the specimen's s...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Hyōmen gijutsu 1996/06/01, Vol.47(6), pp.518-523
Hauptverfasser:	HONG, Sung-Pill, TERAKADO, Kazuyoshi, YOKOTA, Hitoshi, URAO, Ryoichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	FeS Ion-Nitriding MoS2 Plasma-Sulfnitriding Sputtering
Online-Zugang:	Volltext
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