Synthesis and Lithographic Characterization of Poly(5-vinyluracil) Derivative

Enol ether derivative of poly(5-vinyluracil) released completely the tert-butyl groups above 195 °C and gave poly(5-vinyluracil). The resist film as spin coated from chloroform solution containing photo-acid generator released completely the tert-butyl groups after UV light (250 nm) irradiation foll...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of Photopolymer Science and Technology 2003, Vol.16(5), pp.691-696
Hauptverfasser:	SUGIKI, Takanori, INAKI, Yoshiaki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	negative resist poly(5-vinyluracil) positive resist tautomerism
Online-Zugang:	Volltext
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