Application of chemically amplified positive resist PSR for advanced mask making

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of Photopolymer Science and Technology 1993, Vol.6(1), pp.49-52
Hauptverfasser:	Kazama, Kazuo, Murai, Fumio, Khono, Toshihiko, Sakamizu, Toshio, Okazaki, Shinji
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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