Growth and thermal stability of (V,Al)2Cx thin films

Vanadium (V)–aluminum (Al)–carbon (C) thin films were deposited on Al2O3$(11\mathop 2\limits^ - 0)$ substrates at 500 °C by direct current magnetron sputtering using a powder metallurgical composite target with 2:1:1 MAX phase stoichiometry. Transmission electron microscopy (TEM) and x-ray diffracti...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of materials research 2012-10, Vol.27 (19), p.2511-2519
Hauptverfasser:	Jiang, Yan, Iskandar, Riza, Baben, Moritz to, Takahashi, Tetsuya, Zhang, Jie, Emmerlich, Jens, Mayer, Joachim, Polzer, Conrad, Polcik, Peter, Schneider, Jochen M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Annealing Applied and Technical Physics Biomaterials Composite materials Energy Experiments Hot pressing Inorganic Chemistry Materials Engineering Materials research Materials Science Nanotechnology Oxidation Sensors Spectrum analysis Thin films
Online-Zugang:	Volltext
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