Hydroxyl radical formation in H2O2-Amino acid mixtures and chemical mechanical polishing of copper

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2000-10, Vol.147 (10), p.3820-3826
Hauptverfasser:	HARIHARAPUTHIRAN, M, ZHANG, J, RAMARAJAN, S, KELEHER, J. J, YUZHUO LI, BABU, S. V
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Metals. Metallurgy Physics Polishing Surface treatments
Online-Zugang:	Volltext
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