Tungsten photochemical vapor deposition mechanism in WF6+H2 system. I: Adspecies excitation model
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Veröffentlicht in: | Japanese journal of applied physics 1986, Vol.25 (5), p.679-687 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0021-4922 1347-4065 |
DOI: | 10.1143/JJAP.25.679 |