Lithographic processing of polymers using plasma-generated electron beams
Pattern definition in polymer films is achieved using electron beams generated in soft vacuum (0.05-0.50 torr) glow discharges either on a continuous or a pulsed (20-100 ns) basis. With the continuous-mode electron beam, 7- mu m transmission mask features are replicated in both polymethyl methacryla...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on plasma science 1990-04, Vol.18 (2), p.198-209 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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