Lithographic processing of polymers using plasma-generated electron beams

Pattern definition in polymer films is achieved using electron beams generated in soft vacuum (0.05-0.50 torr) glow discharges either on a continuous or a pulsed (20-100 ns) basis. With the continuous-mode electron beam, 7- mu m transmission mask features are replicated in both polymethyl methacryla...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on plasma science 1990-04, Vol.18 (2), p.198-209
Hauptverfasser: Li, L., Krishnaswamy, J., Yu, Z., Collins, G.J., Hiraoka, H., Caolo, M.A.
Format: Artikel
Sprache:eng
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