Enhanced annealing kinetics in ion-implanted InxAl1-xAs studied by x-ray diffractometry

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Veröffentlicht in:Applied physics letters 1991-05, Vol.58 (20), p.2267-2269
Hauptverfasser: CLARKE, R, DOS PASSOS, W, YI-JEN CHAN, PAVLIDIS, D
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0003-6951
1077-3118
DOI:10.1063/1.104895