Rapid thermal low-pressure chemical vapor deposition of SiOx films onto InP

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Applied physics letters 1991-07, Vol.59 (5), p.579-581
Hauptverfasser:	KATZ, A, FEINGOLD, A, PEARTON, S. J, CHAKRABARTI, U. K
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surface and interface dynamics and vibrations Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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