Formation and diffusion behaviour of intermixed and segragated amorphous layers in sputtered NiCr films on Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of applied physics 1993, Vol.73 (8), p.4023-4029
Hauptverfasser: JU-HYEON LEE, ROZGONYI, G. A, PATNAIK, B. K, KNOESEN, D, ADAMS, D, BALDUCCI, P, SALIH, A. S. M
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-8979
1089-7550