Optically and chemically amplified photoresists based on poly(hydroxyaminoester)s

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of materials chemistry 1993, Vol.3 (7), p.761-765
Hauptverfasser: VANNIKOV, A. V, GRISHINA, A. D, TEDORADZE, M. G, KOSTENKO, L. I, ANIKEEV, A. V, KOBLIK, I. V
Format: Artikel
Sprache:rus
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0959-9428
1364-5501