Low temperature breakdown and current filamentation in n-type GaAs with homogeneous and partially ordered Si doping

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor science and technology 1995-06, Vol.10 (6), p.775-784
Hauptverfasser: Kostial, H, Asche, M, Hey, R, Ploog, K, Kehrer, B, Quade, W, Scholl, E
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0268-1242
1361-6641
DOI:10.1088/0268-1242/10/6/006