TiN/TiSi2 formation using TiNx layer and its feasibilities in ULSI

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1995, Vol.34 (2B), p.982-986
Hauptverfasser:	JEONG SOO BYUN, CHANG REOL KIM, KWAN GOO RHA, JAE JEONG KIM, WOO SHIK KIM
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Diffusion interface formation Exact sciences and technology Low-dimensional structures (superlattices, quantum well structures, multilayers): structure, and nonelectronic properties Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!