Mask defect printability and wafer process critical dimension control at 0.25 μm design rules

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1995-12, Vol.34 (12B), p.6605-6610
Hauptverfasser:	PEI-YANG YAN, LANGSTON, J, NEFF, J, CHATTERJEE, R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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