Water absorption properties of fluorine-doped SiO2 films using plasma-enhanced chemical vapor deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese journal of applied physics 1996, Vol.35 (12A), p.6217-6225
Hauptverfasser:	MIYAJIMA, H, KATSUMATA, R, NAKASAKI, Y, NISHIYAMA, Y, HAYASAKA, N
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Defects and impurities: doping, implantation, distribution, concentration, etc Exact sciences and technology General and physical chemistry Physics Solid-gas interface Surface physical chemistry Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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