Tailored ion energy distributions at an rf-biased plasma electrode

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Veröffentlicht in:	Plasma sources science & technology 2010-12, Vol.19 (6), p.065014
Hauptverfasser:	Qin, X V, Ting, Y-H, Wendt, A E
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Etching and cleaning Exact sciences and technology Physics Physics of gases, plasmas and electric discharges Physics of plasmas and electric discharges Plasma applications
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