Effect of the reactor surface roughness on benzene oxidation in dielectric barrier discharges

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Veröffentlicht in:Plasma sources science & technology 2008-11, Vol.17 (4), p.045015
Hauptverfasser: Li, Jing, Han, Shi-Tong, Bai, Shu-Pei, Shi, Xi-Cheng, Han, Su-Ling, Song, Hua, Zhu, Xi-Ming, Chen, Wen-Cong, Pu, Yi-Kang
Format: Artikel
Sprache:eng
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