Controlled Deposition of SiΟ2 Nanoparticles of NIST-Traceable Particle Sizes for Mask Surface Inspection System Characterization

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Veröffentlicht in:IEEE transactions on semiconductor manufacturing 2008, Vol.21 (2), p.238-243
Hauptverfasser: YOOK, Se-Jin, FISSAN, Heinz, ENGELKE, Thomas, ASBACH, Christof, VAN DER ZWAAG, Till, JUNG HYEUN KIM, ESCHBACH, Florence, JING WANG, PUI, David Y. H
Format: Artikel
Sprache:eng
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