Preparation of high-Tc Y-Ba-Cu-O films by three-target magnetron sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese journal of applied physics 1990, Vol.29 (4), p.L604-L606
Hauptverfasser: AKUTSU, N, FUKUTOMI, M, KATOH, K, TAKAHARA, H, TANAKA, Y, ASANO, T, MAEDA, H
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065