Ion channeling analysis of a Si1-xGex(As)/Si strained layer

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Veröffentlicht in:Applied physics letters 1989-06, Vol.54 (25), p.2571-2573
Hauptverfasser: MOORE, J. A, LENNARD, W. N, MASSOUMI, G. R, JACKMAN, T. E, BARIBEAU, J.-M, JACKMAN, J. A
Format: Artikel
Sprache:eng
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