Scum-free patterning of SU-8 resist for electroforming applications
A simple approach is developed to obtain scum-free pattern transfer in SU-8 resist by UV-lithography for electroforming applications. SU-8 is an epoxy-based negative resist used in the fabrication of high-aspect ratio microstructures. SU-8 resist poses considerable processing difficulties and tends...
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Veröffentlicht in: | Journal of micromechanics and microengineering 2005-01, Vol.15 (1), p.130-135 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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