Mechanism and kinetics of thin zirconium and hafnium oxide film growth in an ALD reactor

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Surface science 2004, Vol.549 (1), p.67-86
Hauptverfasser:	DEMINSKY, Maxim, KNIZHNIK, Andrei, BELOV, Ivan, UMANSKII, Stanislav, RYKOVA, Elena, BAGATUR'YANTS, Alexander, POTAPKIN, Boris, STOKER, Matthew, KORKIN, Anatoli
Format:	Artikel
Sprache:	rus
Online-Zugang:	Volltext
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