Use of Microhotplate Arrays as Microdeposition Substrates for Materials Exploration
An approach for high-throughput rapid screening of chemical vapor deposition (CVD) materials using micromachined silicon microheater arrays is described. To illustrate this approach, titanium dioxide was deposited by CVD, using titanium(IV) nitrate and titanium(IV) isopropoxide at temperatures betwe...
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Veröffentlicht in: | Chemistry of materials 2002-04, Vol.14 (4), p.1671-1677 |
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Hauptverfasser: | , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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