Focused ion beam high resolution grayscale lithography for silicon-based nanostructures

Nanofabrication techniques providing a fine control over the profile of silicon structures are of great importance for nanophotonics, plasmonics, sensing, micro- and nano fluidics, and biomedical applications. We report on the applicability of focused ion beam for the fine grayscale lithography, whi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied physics letters 2014-02, Vol.104 (7)
Hauptverfasser: Erdmanis, M., Tittonen, I.
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!