Extreme ultraviolet induced defects on few-layer graphene
We use Raman spectroscopy to show that exposing few-layer graphene to extreme ultraviolet (EUV, 13.5 nm) radiation, i.e., relatively low photon energy, results in an increasing density of defects. Furthermore, exposure to EUV radiation in a H2 background increases the graphene dosage sensitivity, du...
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Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 2013-07, Vol.114 (4) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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