Extreme ultraviolet induced defects on few-layer graphene

We use Raman spectroscopy to show that exposing few-layer graphene to extreme ultraviolet (EUV, 13.5 nm) radiation, i.e., relatively low photon energy, results in an increasing density of defects. Furthermore, exposure to EUV radiation in a H2 background increases the graphene dosage sensitivity, du...

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Veröffentlicht in:Journal of applied physics 2013-07, Vol.114 (4)
Hauptverfasser: Gao, A., Rizo, P. J., Zoethout, E., Scaccabarozzi, L., Lee, C. J., Banine, V., Bijkerk, F.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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