Effect of the accumulation of excess Ni atoms in the crystal structure of the intermetallic semiconductor n-ZrNiSn
The crystal structure, electron density distribution, and energy, kinetic, and magnetic properties of the n -ZrNiSn intermetallic semiconductor heavily doped with a Ni impurity are investigated. The effect of the accumulation of an excess number of Ni 1 + x atoms in tetrahedral interstices of the cr...
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Veröffentlicht in: | Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2013-07, Vol.47 (7), p.892-898 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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