Effect of the accumulation of excess Ni atoms in the crystal structure of the intermetallic semiconductor n-ZrNiSn

The crystal structure, electron density distribution, and energy, kinetic, and magnetic properties of the n -ZrNiSn intermetallic semiconductor heavily doped with a Ni impurity are investigated. The effect of the accumulation of an excess number of Ni 1 + x atoms in tetrahedral interstices of the cr...

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Veröffentlicht in:Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2013-07, Vol.47 (7), p.892-898
Hauptverfasser: Romaka, V. A., Rogl, P., Romaka, V. V., Stadnyk, Yu. V., Hlil, E. K., Krajovskii, V. Ya, Horyn, A. M.
Format: Artikel
Sprache:eng
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