Influence of local atomic configuration in AlGdN phosphor thin films on deep ultra-violet luminescence intensity
We investigated the narrowband ultraviolet emission properties of Al 0.94 Gd 0.06 N phosphor thin films pumped by an electron beam. An extremely narrow luminescence line, which was less than 1 nm from the intra-orbital f-f transition in Gd 3+ ions, was confirmed at 318 nm. The corresponding emission...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 2011-11, Vol.110 (9), p.093108-093108-4 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!