Efficient energy transfer from Si-nanoclusters to Er ions in silica induced by substrate heating during deposition

This study investigates the influence of the deposition temperature T d on the Si-mediated excitation of Er ions within silicon-rich silicon oxide layers obtained by magnetron cosputtering. For T d exceeding 200 ° C , an efficient indirect excitation of Er ions is observed for all as-deposited sampl...

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Veröffentlicht in:Journal of applied physics 2010-09, Vol.108 (6), p.064302-064302-6
Hauptverfasser: Cueff, Sébastien, Labbé, Christophe, Cardin, Julien, Doualan, Jean-Louis, Khomenkova, Larysa, Hijazi, Khalil, Jambois, Olivier, Garrido, Blas, Rizk, Richard
Format: Artikel
Sprache:eng
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