Efficient energy transfer from Si-nanoclusters to Er ions in silica induced by substrate heating during deposition
This study investigates the influence of the deposition temperature T d on the Si-mediated excitation of Er ions within silicon-rich silicon oxide layers obtained by magnetron cosputtering. For T d exceeding 200 ° C , an efficient indirect excitation of Er ions is observed for all as-deposited sampl...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Journal of applied physics 2010-09, Vol.108 (6), p.064302-064302-6 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!