Dopamine-Mediated Polymer Coating Facilitates Area-Selective Atomic Layer Deposition
Area-selective atomic layer deposition (ALD) has the potential to significantly improve current fabrication approaches by introducing a bottom-up process in which robust and conformal thin films are selectively deposited onto patterned substrates. This bottom-up approach requires selective areas of...
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Veröffentlicht in: | ACS applied polymer materials 2021-10, Vol.3 (10), p.4924-4931 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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