Spectroscopic ellipsometry and photoluminescence measurements of as-deposited and annealed silicon rich oxynitride films
As-deposited and annealed amorphous SiO x N y /H (0.17 ≤ x ≤ 0.96; 0.07 ≤ y ≤ 0.27) films were characterized by spectroscopic ellipsometry and room temperature photoluminescence measurements. The refractive index of as-deposited silicon oxynitride films could be successfully varied between SiO 2 and...
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Veröffentlicht in: | Thin solid films 2008-04, Vol.516 (12), p.4342-4350 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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