肝斑に対する低フルエンス照射：755 nmナノ秒レーザー

近年，肝斑に対する波長1,064 nmのQスイッチNd:YAGレーザーによるレーザートーニング治療が普及している．筆者は，波長755 nmのQスイッチアレキサンドライトレーザーを用いた低フルエンス照射を2014年から行っており，色素脱失や瘢痕形成などの合併症は認めず概ね良好な結果を得ている．本治療は，過度な熱影響を与えない慎重な出力設定と照射間隔を見極めれば，安全で有効な肝斑の治療法の一つと成り得ると考えられた．...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	日本レーザー医学会誌 2018/07/15, Vol.39(2), pp.126-130
1. Verfasser:	中田, 元子
Format:	Artikel
Sprache:	jpn
Schlagworte:	755 nmナノ秒レーザー Qスイッチアレキサンドライトレーザー低フルエンス照射肝斑
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Beschreibung
Zusammenfassung:	近年，肝斑に対する波長1,064 nmのQスイッチNd:YAGレーザーによるレーザートーニング治療が普及している．筆者は，波長755 nmのQスイッチアレキサンドライトレーザーを用いた低フルエンス照射を2014年から行っており，色素脱失や瘢痕形成などの合併症は認めず概ね良好な結果を得ている．本治療は，過度な熱影響を与えない慎重な出力設定と照射間隔を見極めれば，安全で有効な肝斑の治療法の一つと成り得ると考えられた．
ISSN:	0288-6200 1881-1639
DOI:	10.2530/jslsm.jslsm-39_0015