Comparative study of the interface passivation properties of LiF and Al2O3 using silicon MIS capacitor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	APPLIED PHYSICS LETTERS 2024-04, Vol.124 (14)
Hauptverfasser:	Parion, Jonathan, Scaffidi, Romain, Duerinckx, Filip, Sivaramakrishnan Radhakrishnan, Hariharsudan, Flandre, Denis, Poortmans, Jef, Vermang, Bart
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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