DESIGN OF A NEUTRON SCREEN FOR 6-INCH NEUTRON TRANSMUTATION DOPING IN HANARO

The neutron transmutation doping of silicon (NTD), as a method to produce a high quality semiconductor, utilizes the transmutation of a silicon element into phosphorus by neutron absorption in a silicon single crystal. In this paper, we present the design of a neutron screen for a 6' Si ingot i...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Nuclear engineering and technology 2006, Vol.38 (7), p.675-680
Hauptverfasser:	Kim, Hak-Sung, Oh, Soo-Youl, Jun, Byung-Jin, Kim, Myong-Seop, Seo, Chul-Gyo, Kim, Heon-Il
Format:	Artikel
Sprache:	kor
Online-Zugang:	Volltext
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