Investigation of large-area multicoil inductively coupled plasma sources using three-dimensional fluid model
A multi inductively coupled plasma (ICP) system can be used to maintain the plasma uniformity and increase the area processed by a high-density plasma. This article presents a source in two different configurations. The distributed planar multi ICP (DM-ICP) source comprises individual ICP sources th...
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Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 2016-07, Vol.55 (7S2), p.7-07LD08 |
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1. Verfasser: | |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
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