Selective Cu growth on fine structures using a Cu-iodide precursor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2024-06, Vol.63 (6)
Hauptverfasser:	Toyoda, Gento, Fuse, Takashi, Yamauchi, Satoshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	chemical vapor deposition CuI precursors L/S fine structure selective Cu deposition
Online-Zugang:	Volltext
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