Growth of double-barrier β-(AlGa)2O3/Ga2O3 structure and heavily Sn-doped Ga2O3 layers using molecular-beam epitaxy
I report on the growth of a double-barrier β-(Al0.15Ga0.85)2O3/Ga2O3/(Al0.15Ga0.85)2O3 heterostructure and heavily Sn-doped β-Ga2O3 layers toward the application of resonant-tunneling diodes. The Ga2O3 and (AlGa)2O3 layers were grown on a β-Ga2O3 (010) substrate by plasma-assisted molecular-beam epi...
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Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 2020-07, Vol.59 (7) |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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