Application of Parametric Modeling in Atomic Layer Deposition

Atomic Layer Deposition (ALD) is sequential and conformal process that provides precise thickness control due to its self-limiting nature even in high aspect ratio structures. The exponential growth in the use of ALD is due the availability of hundreds of precursor chemistries for diverse technologi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2022-10, Vol.MA2022-02 (15), p.813-813
Hauptverfasser:	Shendokar, Sachin, Hossen, Moha Feroz, Ayanbajo, Olubukola, Aravamudhan, Shyam
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext bestellen
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