Langmuir-Type Expressions for In-Situ Co-Doping of C with B or P in Si1–xGex Epitaxial Growth by Chemical Vapor Deposition

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Veröffentlicht in:ECS journal of solid state science and technology 2021-06, Vol.10 (6)
Hauptverfasser: Murota, Junichi, Ishii, Hiromu
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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