Thermal boundary resistance of direct van der Waals bonded GaN-on-diamond
Carbide forming interlayers, such as amorphous silicon nitride, are typically used for GaN-on-diamond heterogenous integration. This interlayer has a low thermal conductivity, introducing an additional extrinsic interfacial thermal resistance. It may therefore be advantageous to omit this layer, dir...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Semiconductor science and technology 2020-09, Vol.35 (9), p.95021 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!