The Effects of AlN and Copper Back Side Deposition on the Performance of Etched Back GaN/Si HEMTs
The breakdown voltage of GaN/Si high-electron-mobility transistors (HEMTs) for power electronics has shown to be improved by removing the silicon substrate. The drawback to this approach is the increase in the device's thermal resistance, which limits the power dissipation that the device can a...
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Veröffentlicht in: | IEEE electron device letters 2019-07, Vol.40 (7), p.1060-1063 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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