Deep, vertical etching of hi-silica films for optical waveguide applications

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: McLaughlin, A.J., Bonar, J.R., Jubber, M.G., Marques, P.V.S., Hicks, S.E., Wilkinson, C.D.W., Aitchison, J.S.
Format: Tagungsbericht
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
DOI:10.1109/CLEO.1997.603515