Characterization of the Remote Plasma Generated in a Pulsed-DC Gas-Flow Hollow-Cathode Discharge
In this paper, the remote plasma generated in a pulsed-dc powered gas-flow hollow-cathode discharge in Ar with Al and Cu targets used for reactive sputter-deposition processes was investigated using time-resolved optical emission spectroscopy and Langmuir probe measurements. It was found that the Ar...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on plasma science 2007-06, Vol.35 (3), p.527-533 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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