Characterization of the Remote Plasma Generated in a Pulsed-DC Gas-Flow Hollow-Cathode Discharge

In this paper, the remote plasma generated in a pulsed-dc powered gas-flow hollow-cathode discharge in Ar with Al and Cu targets used for reactive sputter-deposition processes was investigated using time-resolved optical emission spectroscopy and Langmuir probe measurements. It was found that the Ar...

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Veröffentlicht in:IEEE transactions on plasma science 2007-06, Vol.35 (3), p.527-533
Hauptverfasser: Paduraru, C., Becker, K.H., Belkind, A., Lopez, J.L., Gonzalvo, Y.A.
Format: Artikel
Sprache:eng
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