Performance Enhancement of AlGaN/GaN HEMT via Trap-State Improvement Using O } Plasma Treatment
Herein, we present a detailed analysis of the effects of O _{\text{2}} plasma treatment on the AlGaN barrier volume trap states in an Al _{\text{0.45}} Ga _{\text{0.55}} N/GaN high-electron mobility transistor. Compared to that of the as-grown sample, the single short-pulse \textit{I}_{\textit{D}}...
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Veröffentlicht in: | IEEE transactions on electron devices 2023-05, p.1-6 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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