Performance Enhancement of AlGaN/GaN HEMT via Trap-State Improvement Using O } Plasma Treatment

Herein, we present a detailed analysis of the effects of O _{\text{2}} plasma treatment on the AlGaN barrier volume trap states in an Al _{\text{0.45}} Ga _{\text{0.55}} N/GaN high-electron mobility transistor. Compared to that of the as-grown sample, the single short-pulse \textit{I}_{\textit{D}}...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:IEEE transactions on electron devices 2023-05, p.1-6
Hauptverfasser: Amir, Walid, Shin, Ju-Won, Shin, Ki-Yong, Chakraborty, Surajit, Cho, Chu-Young, Kim, Jae-Moo, Lee, Sang-Tae, Hoshi, Takuya, Tsutsumi, Takuya, Sugiyama, Hiroki, Matsuzaki, Hideaki, Kim, Dae-Hyun, Kim, Tae-Woo
Format: Artikel
Sprache:eng
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