Subnanometric Si film reactive diffusion on Ni

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Veröffentlicht in:Applied physics letters 2009-07, Vol.95 (2)
Hauptverfasser: Portavoce, A., Lalmi, B., Tréglia, G., Girardeaux, C., Mangelinck, D., Aufray, B., Bernardini, J.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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