KxNa1−xNbO3 perovskite thin films grown by pulsed laser deposition on R-plane sapphire for tunable microwave devices

K x Na 1− x NbO 3 thin films with x  = 0.5 and x  = 0.7 were deposited by pulsed laser deposition onto R-cut sapphire substrates to be suitable for microwave applications. The 500–800-nm-thick films present a preferential (100) orientation. The ω -scans show a weak mosaicity (full-width at half-maxi...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of materials science 2018-09, Vol.53 (18), p.13042-13052
Hauptverfasser: Aspe, B., Cissé, F., Castel, X., Demange, V., Députier, S., Ollivier, S., Bouquet, V., Joanny, L., Sauleau, R., Guilloux-Viry, M.
Format: Artikel
Sprache:eng
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