Optical monitoring of the deposition process of ferroelectric films
A method of optical monitoring of deposition of ferroelectric Ba 0.8 Sr 0.2 TiO 3 films grown by high-frequency reactive plasma-enhanced chemical deposition has been considered. The studies of the plasma in the optical range have demonstrated that the emission spectrum at wavelengths λ > 450 nm i...
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Veröffentlicht in: | Physics of the solid state 2015-07, Vol.57 (7), p.1377-1380 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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