Optical monitoring of the deposition process of ferroelectric films

A method of optical monitoring of deposition of ferroelectric Ba 0.8 Sr 0.2 TiO 3 films grown by high-frequency reactive plasma-enhanced chemical deposition has been considered. The studies of the plasma in the optical range have demonstrated that the emission spectrum at wavelengths λ > 450 nm i...

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Veröffentlicht in:Physics of the solid state 2015-07, Vol.57 (7), p.1377-1380
Hauptverfasser: Afanas’ev, M. S., Nabiev, A. E., Chucheva, G. V.
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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